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用于 BGA 植球工艺的低温焊膏解决方案,以保护 BGA 芯片体

用于 BGA 植球工艺的低温焊膏解决方案,以保护 BGA 芯片体

球安装过程中 BGA 芯片主体的热损坏长期以来一直是产量瓶颈,特别是在间距低于 0.4 毫米的细间距封装中。传统的Sn96.5/Ag3.0/Cu0.5焊膏需要高于230°C的峰值温度才能实现可靠的回流,而芯片模塑料和基板之间的CTE不匹配导致热膨胀不兼容。如果结合多次返工周期,硅晶圆边缘极有可能形成不可见的微裂纹。此类缺陷往往在老化测试后才显现出来,直接延长了客户投诉周期。

低温焊膏不仅仅是降低熔点,而是重构冶金反应窗口

佳金源 LTS-215焊膏的活性体系经过3次生产线迭代验证,确保SnBiAg三元共晶相在185±3℃峰值温度下充分析出。其通量挥发曲线和升温速率与氮气气氛下氧含量衰减节奏严格匹配,不仅避免了桥连,而且防止了球体氧化和发黑。某客户在CSP植球时更换原来的高温方案后,X射线检测的空洞率从12.7%下降到3.1%,AOI误报率同时下降40%。

刮刀压力和释放速度必须同时调整

低温焊膏的粘度对温度比较敏感。如果使用原来的2.5kgf刮刀压力和15mm/s的释放速度,拖尾的焊膏很容易残留在模板孔径处,导致球安装后的球体直径偏差超过±0.04mm。通过将刮刀压力降低至1.8kgf,将释放速度提高至22mm/s,同时将钢网张力从38N/cm²微调至42N/cm²,我们实现了焊膏在孔径内的更均匀的剪切流动,测得的球高CV值稳定控制在5.3%以内。

模板孔径设计必须与焊膏的流变特性成反比

佳金源 LTS系列焊膏的触变指数为4.8,远高于传统焊膏的3.2。这意味着它在静止状态下具有很高的结构强度,并且在打印过程中容易倒塌。因此直径0.3mm的球安装必须采用倒梯形孔径,上孔径0.32mm,下孔径0.28mm,锥角控制在8°±0.5°。否则,连续打印200次后,第198块板上将有3个以上的球体发生偏移,偏移集中在15~22μm范围内,正好落在AOI识别阈值的边缘。

回流焊炉链速度和氮气纯度之间存在很强的耦合关系

当烘箱温度设定到185℃峰值时,如果氮气纯度低于99.992%,残留的氧气会加速Bi元素的表面氧化,导致球体表面粗糙度Ra值突然增大到0.85μm以上。此时,即使将链条速度从120cm/min降低到90cm/min也无法改善这种情况。需要将氮气纯度提高到99.995%,同时将均热区时间延长8秒,以保证Sn-Bi界面处原子充分​​扩散,保持剪切强度围绕32MPa基线波动不超过1.2MPa。

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