Diện tích miếng đệm của thành phần 01005 chỉ là 0,024 mm2, do đó dung sai khối lượng In dán hàn phải được kiểm soát trong phạm vi ±12%. Khi độ nhám thành bên của khẩu độ stencil vượt quá Ra 0,8 μm hoặc thiết kế sườn đỡ không hợp lý, miếng dán hàn dễ dàng bị kéo ra và vỡ thành các hạt trong quá trình tháo khuôn, chúng sẽ kết tụ lại thành các hạt hàn trong quá trình hàn lại. Những hạt hàn này, thường có đường kính 25–45 μm, bị kẹt chính xác ở ranh giới giữa mép miếng đệm và mặt nạ hàn, trở thành điểm yếu nhất bị đứt đầu tiên trong các thử nghiệm cách điện cao áp tiếp theo.
Khẩu độ stencil xác định hình thái dán hàn
Sau khi chúng tôi thay thế giấy nến tạo hình điện truyền thống bằng giấy nến cắt bằng hợp kim niken 20μm, tỷ lệ xuất hiện hạt hàn 01005 đã giảm 41%. Điều quan trọng nằm ở độ thẳng đứng của thành bên khẩu độ đạt 89,7° và độ lệch côn ≤0,3°, giúp ổn định tốc độ truyền chất hàn ở mức 82,5%±3,2%. Nếu vẫn sử dụng giấy nến tạo hình điện 30 μm, chênh lệch gợn sóng từ đỉnh đến thung lũng của nó thường đạt tới 1,8 μm, khiến mép dán hàn dễ bị rách và vẫn ở dưới đáy khẩu độ. Trong quá trình hàn lại, nó lăn xuống mặt nạ hàn được điều khiển bởi sức căng bề mặt để tạo thành các hạt hàn bị cô lập. Một khách hàng của JiaJinYuan từng gặp phải hiện tượng rò rỉ dòng vượt quá tiêu chuẩn trong thử nghiệm điện áp chịu đựng 1000 Vdc do vấn đề này.
Các thông số của chổi cao su phải phù hợp với đặc tính lưu Biến của chất hàn dán
Khi độ nhớt của kem hàn là 220 Pa·s và chỉ số thixotropic là 0,63, góc vắt phải được đặt thành 60° và áp suất được điều chỉnh thành 5,8 kgf để đảm bảo lấp đầy hoàn toàn các miếng đệm 01005. Nếu góc thấp hơn 55°, lực cắt dán hàn không đủ sẽ dẫn đến lấp đầy các khoảng trống; nếu nó cao hơn 63°, kem hàn sẽ bị ép quá mức và tràn ra các miếng đệm. Phần tràn không thể bị oxy hóa hoàn toàn trong môi trường nitơ và co lại thành các hạt hàn hình cầu sau khi nóng chảy lại.
Hàm lượng oxy trong khí quyển Reflow ảnh hưởng trực tiếp đến trạng thái oxy hóa hạt hàn
Các phép đo cho thấy khi nồng độ O₂ trong lò cao hơn 100 PPM, hình thành một màng SnO₂ dày không đều trên bề mặt hạt hàn xung quanh 01005 mối hàn. Mặc dù điều này có thể làm chậm quá trình di chuyển nhưng nó làm tăng độ méo điện trường cục bộ, khiến điện trở cách điện suy giảm nhanh hơn sau chu kỳ nhiệt độ và độ ẩm. Việc tăng độ tinh khiết nitơ từ 99,99% lên 99,9995% và kiểm soát áp suất dương của lò ở mức 0,3 kPa có thể giữ cho bề mặt hạt hàn có độ bóng kim loại mà không bị màng oxit che phủ, do đó làm giảm xu hướng ion hóa của nó dưới điện áp cao.
Nhận dạng AOI có những điểm mù cố hữu
AOI hiện tại có tỷ lệ phát hiện dưới 37% đối với các hạt hàn có chiều cao <18 μm. Đặc Biệt khi hạt hàn nằm sát mép của dầu xanh của mặt nạ hàn, giá trị xám của nó chênh lệch với dầu xanh chỉ là 2,3 đơn vị DN, thấp hơn nhiều so với ngưỡng 8,5 DN do thuật toán đặt ra. Cần bổ sung thêm trạm kiểm tra toàn bộ kính hiển vi 100x sau lò, tập trung vào các khu vực có nguy cơ cao như xung quanh BGA, chân IC nguồn, mảng điện trở 01005. Nếu không, hư hỏng cách điện sẽ tập trung và bùng phát vào giờ thứ 120 của thử nghiệm lão hóa.
